加入日期	2017年07月27日	所屬地區(qū)	云南省	進(jìn)展階段	審批公示

正文內(nèi)容

項(xiàng)目名稱：氮化鎵(GaN)外延片及微波功率器件產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目

項(xiàng)目概況：氮化鎵(GaN)外延片及微波功率器件產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目，建設(shè)地點(diǎn)位于云南省昆明空港經(jīng)濟(jì)區(qū)，總占地面積100085m2，總建筑面積36204.65m2。建設(shè)兩條完整的生產(chǎn)線，年產(chǎn)氮化鎵外延片9萬片、軍用雷達(dá)微波功率器件5萬枚、5G通信功率器件及其他器件6000萬枚。總投資120030萬元，其中環(huán)保投資1343萬元。2017 年 11 月計(jì)劃

開工建設(shè)，2018 年 12 月月底建好完工交付使用。

本項(xiàng)目主要建設(shè)內(nèi)容 

類型 

建設(shè)名稱 設(shè)計(jì)參數(shù) 備注 

主體工程 

生產(chǎn)廠房一 2 層，建筑面積 12648m2 

鋼結(jié)構(gòu)廠房，層高 8m；1 層

氮化鎵外延片和功率器件生產(chǎn)，2 層封裝線 

生產(chǎn)廠房二 2 層，建筑面積 12648m2 

鋼結(jié)構(gòu)廠房，層高 8m；1 層氮化鎵外延片和功率器件生產(chǎn)，2 層封裝線 

生產(chǎn)廠房三 2 層，建筑面積 12648m2 

鋼結(jié)構(gòu)廠房，層高 8m；1 層

氮化鎵外延片和功率器件生產(chǎn)，2 層封裝線 

生產(chǎn)廠房四 2 層，建筑面積 12648m2 

鋼結(jié)構(gòu)廠房，層高 8m；1 層

氮化鎵外延片和功率器件生產(chǎn)，2 層封裝線 

動(dòng)力氣體廠房 1層，建筑面積876.04m2 

鋼結(jié)構(gòu)廠房，層高 7.8m，主

要用于存放氮?dú)狻⒀鯕狻鍤狻?/div>

氦氣、氨氣、氫氣、硅烷平衡

氮?dú)狻⒙葰狻⒙鹊旌蠚怏w、

三氯化硼、一氧化二氮、CF4等氣體 

貯運(yùn)工程 

化學(xué)品庫(kù) 1層，建筑面積298.76m2 

混凝土結(jié)構(gòu)，主要用于存放生產(chǎn)過程中使用的化學(xué)品（正膠

顯影液、異丙醇、雙氧水、Ti腐蝕液、氫氧化鈉），為甲類倉(cāng)庫(kù) 

綜合倉(cāng)庫(kù) 

1 層，建筑面積3495.28m2 

混凝土結(jié)構(gòu)，主要用于存放部

分原料（碳化硅襯底、藍(lán)寶石

襯底、硅襯底、三甲基鎵、三

甲基鋁、光刻膠、去膠液、拋

光液、剝離液、去蠟液、Au 腐

蝕液、電鍍金液、金、鈦、鈦鎢、鉑）和產(chǎn)品 

公用工程 

給水工程 

新鮮水需要量 28.53 萬m3/a 

由園區(qū)自來水廠供應(yīng) 

排水工程 

各種廢水：11.59 萬 m3/a 經(jīng)處理后全部回用，不外排 

雨水 排入園區(qū)雨水管網(wǎng) 

供電工程 1500 萬 kWh 園區(qū)供電 

供氣系統(tǒng) 16.2 萬 m3/a 由園區(qū)燃?xì)夤芫W(wǎng)提供 

供熱系統(tǒng) 1 臺(tái) 1t/h 燃?xì)鉄崴仩t 

蒸汽經(jīng)換熱站換熱為凈化空調(diào)

管道系統(tǒng)內(nèi)循環(huán)用水進(jìn)行加

熱，蒸汽鍋爐天然氣耗量75m3/h。 

純水系統(tǒng) 1 套，產(chǎn)水規(guī)模 10t/h 位于純水站 

軟水系統(tǒng) 1 套，產(chǎn)水規(guī)模 1.5t/h 位于鍋爐房，給提供鍋爐用水 

循環(huán)冷卻系統(tǒng) 660 m3/h 3 臺(tái) 220 m3/h 冷卻塔 

冷水機(jī)組 共 7 臺(tái) 3 臺(tái) 2285MW、4 臺(tái) 2637MW 

潔凈系統(tǒng) 4 套風(fēng)量 72000m3/h 

外延 MOCVD 區(qū)設(shè)備操作區(qū)凈

化級(jí)別為 1000 級(jí)，生產(chǎn)設(shè)備區(qū)

凈化 10000 級(jí)，封裝生產(chǎn)區(qū)域

為 10000 級(jí)。生產(chǎn)廠房氣流組

織為上送下側(cè)回。房間吊頂上

均勻布置高效送風(fēng)口，房間側(cè)

下壁板上布置格柵回風(fēng)口。室

外新風(fēng)經(jīng)集中處理后與室內(nèi)回

風(fēng)混合后經(jīng)過濾及冷熱處理

后，由高效送風(fēng)口送入潔凈室，

回風(fēng)經(jīng)格柵風(fēng)口回至主回風(fēng)管道。 

空壓站 900 m3/h 1 臺(tái)空壓機(jī) 

綠化 19575m2 綠化率 19.56% 

消防水池 1 座，500m3 位于綜合動(dòng)力站 

綜合動(dòng)力站 3495.28m2 

純水機(jī)房、空壓機(jī)房、鍋爐房、消防泵房等 

輔助工程 

綜合辦公樓 

6 層樓，建筑面積

15347.82m2，最高21.45m 

產(chǎn)品展示、辦公、會(huì)議、院士

工作站及實(shí)驗(yàn)工程研究中心等 

食堂及倒班宿舍 

5 層樓，建筑面積

6406.4m2，最高 18.15m 

食堂及員工倒班宿舍，其中一

樓為食堂，2~5 樓為職工宿舍 

安檢大廳及辦公樓 

2 層樓，建筑面積2224.4m2，最高 7.8m 

一樓對(duì)進(jìn)出生產(chǎn)廠房的員工進(jìn)

行安檢，二樓為生產(chǎn)系統(tǒng)部分員工的辦公 

環(huán)保工程

廢氣 布袋收塵器 

1 套+1#27 米高排氣筒，

排氣筒位于動(dòng)力氣體廠

處理激光標(biāo)刻、打孔、劃片粉塵 

房和四號(hào)廠房之間 

Scrubber 燃燒器 

1 套+2#15 米高排氣筒，

排氣筒位于動(dòng)力氣體廠

房和四號(hào)廠房之間 

處理 MOCVD 廢氣 NH3、H2、CH4 

堿液噴淋塔 

1 套+3#27 米高排氣筒，

排氣筒位于動(dòng)力氣體廠

房和四號(hào)廠房之間 

處理 MOCVD、PECVD 清理廢

氣 Cl2 和蝕刻廢氣 Cl2 

活性炭吸附裝置 

1 套+4#27 米高排氣筒，

排氣筒位于動(dòng)力氣體廠

房和四號(hào)廠房之間 

處理光刻工序產(chǎn)生的有機(jī)廢氣（VOC） 

氟化物裂解反應(yīng)爐 

1 套+5#27 米高排氣筒，

排氣筒位于動(dòng)力氣體廠

房和四號(hào)廠房之間 

處理鈍化、場(chǎng)板腐蝕產(chǎn)生的氟

化物 

鍋爐排氣筒 

1 套+6#25 米高排氣筒，

排氣筒位于動(dòng)力氣體廠

房和四號(hào)廠房之間 

外排鍋爐燃?xì)鈴U氣 

油煙凈化處理器 

1 套+7#20 米高排氣筒，

排氣筒位于宿舍樓，排

氣筒朝南，油煙凈化器

安裝在食堂廚房 

處理食堂油煙 

廢水 

隔油池 1 個(gè)，5m3 食堂廢水隔油處理 

化糞池 

1 個(gè)為 20m3，一個(gè)為10m3 

分別位于宿舍樓和辦公樓 

廠內(nèi)生產(chǎn)廢水預(yù)

處理站（中和處理） 1 座，處理規(guī)模 150m3/d 

位于廠區(qū)西北側(cè) 

中水站（ICEAS工藝處理） 

1座，處理規(guī)模490m3/d，

其中清水池一座，容積

為 320m3（可以容納 1天的中水） 

事故應(yīng)急水池 

1 座，400 m3（可以容納

1 天的所有廢水） 

位于生產(chǎn)廢水預(yù)處理設(shè)施旁邊 

噪聲處理 

減振、隔聲、合理布局、

廠區(qū)綠化等 / 

固廢 

一般固廢暫存處 1 間，50 m2 

位于工廠的北面，化學(xué)品庫(kù)旁邊 

危險(xiǎn)廢物暫存處 1 間，50 m2 

位于工廠的北面，化學(xué)品庫(kù)旁邊 

圍堰有效容（m3）/高度（m） 

三甲基鎵 5.5/0.2 

位于綜合倉(cāng)庫(kù)，在堆放上述物

料的地方設(shè)置一個(gè)圍堰 

三甲基鋁 

光刻膠 

去膠液 

拋光液 

剝離液 

去蠟液 

Au 腐蝕液 

電鍍金液  

正膠顯影液 3.0/0.2 

位于化學(xué)品庫(kù)，在堆放上述物

料的地方設(shè)置一個(gè)圍堰 

異丙醇 

雙氧水 

Ti 腐蝕液 

項(xiàng)目主要生產(chǎn)設(shè)備 

序號(hào) 設(shè)備名稱 數(shù)量 

基本參數(shù)或功能描述 廠家信息 

1 MOCVD 4 氮化鎵生長(zhǎng) 

Germany 

Aixtron 

Veeco USA 2 

高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備(Metal) 

4 電力規(guī)格：AC200V±10%，φ3，50/60Hz Japan ULVAC 

3 真空濺射鍍膜設(shè)備 4 

極限真空度：?jiǎn)伍_分子泵系統(tǒng)時(shí)，,8.5x10-6

Pa 開離子泵系統(tǒng)時(shí)，8.5x10-7

Pa 擴(kuò)散泵系統(tǒng),8x10-4 Pa 2,真空

抽速：從大氣達(dá)到 7x10-4 Pa,<40 分鐘。

3.可制備最大為 φ100mm 的薄膜樣品 Japan ULVAC 

4 ICP 刻蝕臺(tái) 4 

13.56MHZ 全固態(tài)技術(shù);動(dòng)態(tài)諧調(diào) RF 發(fā)

生器功率 600-1600W 

北方微電子 Japan ULVAC 

牛津儀器 

5 PECVD 4 

工作頻率 2.45GHZ 功率范圍：2600-3200W 

北方微電子 

牛津儀器 

6 快速退火爐 3 

W*L*H 800x1300x1900mm 

USA Allwin21 Corp 

電力規(guī)格： 

380V-125A 

3?/4W-50/60Hz  

7 四探針測(cè)試臺(tái) 2 

功率:35W 廣州昆德科技

有限公司 

可測(cè)電阻率：0.001～1000Ω.cm 可測(cè)方

塊電阻:0.01～10000Ω/□ 

8 雙面曝光機(jī) 2 

4-6inch，backside lithography，

resolution 0.5um。 

Germany SUSS MicroTec 

9 投影光刻機(jī) 4 PAS 5500-750 resolution 0.13um. Nederland ASML 

10 Matrix 105R 等離子去膠機(jī) 

4 清洗殘膠 USA Allwin21 Corp 

11 PCT-150 自動(dòng)上光阻機(jī) 3 兩軌，帶冷板和熱板 USA PICOTRACK 

12 自動(dòng)顯影臺(tái) 3 兩軌，帶冷板和熱板 USA PICOTRACK 

13 自動(dòng)上蠟機(jī) 2 高溫臘 Korea NTS 

14 垂直自動(dòng)減薄機(jī) 2 Wafer grinding Korea NTS 

15 粗拋機(jī) 2 polishing NTS 

16 激光劃片機(jī) 4 cutter 江蘇德龍 

17 金屬剝離機(jī) 5 Lift off Austria SSEC 

18 SPM 清洗槽和有機(jī)清洗 8 Wafer cleaning 河北神通 

19 腐蝕槽 3 Wafer cleaning 河北神通 

20 Keithley2400 4 testing USA Keithley 

21 Keithley4200 直流測(cè)試系統(tǒng) 

2 testing USA Algilent 

22 掃描電子顯微鏡 2 Process check Japan HITACHI 

23 臺(tái)階儀 2 Process testing USA Ambios 

24 空氣共平面 G-S-G 探針測(cè)量臺(tái) 

2 Microwave parameter Testing 

Cascade Microtech 

25 PNA E8363B 高性能矢

量網(wǎng)絡(luò)分析儀 

2 Microwave parameter testing USA Algilent 

26 HMDS 預(yù)處理烘箱 4 

功率:2000W;容器:90L;電源電

壓:220V±10;尺寸（mm）:450×450×450 

上海劵思實(shí)驗(yàn)

儀器 

27 電熱真空干燥箱 4 30-300℃ 上海實(shí)驗(yàn)儀器 

28 離子注入機(jī) 2 200Kev,large beam current Japan ULVAC 

29 電鍍臺(tái) 4 electroplating Au 河北申通 

30 Load pull 系統(tǒng) 2 Microwave parameter testing USA EOULU 

31 甩干機(jī) 5 Rinse 中電 45 所 

32 E-beam lithography 2 

Resolution 50nm.Overlay 

30nm,8 inch stage The UK leica.  

33 手動(dòng)探針臺(tái) 4 Process testing 河北神通 

34 MBE 2 氮化鋁生長(zhǎng) 北方微電子 

35 烤盤爐 4 處理石墨盤 

36 XRD(X 光衍射儀) 2 XPertPRO 

Panalytical(帕納科) 

37 霍爾測(cè)試儀 2 HL5500PC 德儀科技 

38 金相顯微鏡 20 BX51M 利訊科技 

39 EL 量測(cè)試統(tǒng) 2 Nanometrics-RPMBlue Nanometrics 

40 PL 光譜測(cè)量 2 ELV1-MP3 宏綱科技公司 

41 激光打標(biāo)機(jī) 2 ILS-II-30w 雷晟科技 

42 氦氣檢漏儀 3 UL-1000 Fab Inficon 

43 全自動(dòng)晶片劈裂機(jī) 10 芯片開裂 Opto System 

44 芯片點(diǎn)測(cè)機(jī) 10 抽測(cè)芯片 李德精儀 

45 自動(dòng)貼膜機(jī) 5 倒藍(lán)膜 李德精儀 

46 自動(dòng)擴(kuò)片機(jī) 5 晶片擴(kuò)大 李德精儀 

47 金線打線機(jī) 6 打金線 

達(dá)運(yùn)工業(yè)股份有限公司 

48 恒溫恒濕測(cè)試機(jī)組 2 老化篩選 遠(yuǎn)方科技 

49 推拉力機(jī) 2 可靠性 

達(dá)運(yùn)工業(yè)股份有限公司 

50 老化工作箱 5 可靠性測(cè)試 

達(dá)運(yùn)工業(yè)股份有限公司 

51 高溫老化測(cè)試臺(tái) 5 可靠性測(cè)試 

達(dá)運(yùn)工業(yè)股份有限公司 

52 Semi-Auto Parts Cleaner 5 PC-001A 

錫宬科技有限公司 

53 Ebara Dry pump 5 ESA70WD 荏原公司(上海) 

54 爐管合金爐 2 金屬合金 青島賽瑞達(dá) 

55 低溫測(cè)試機(jī)組 5 可靠性測(cè)試 

達(dá)運(yùn)工業(yè)股份有限公司 

56 Spectrum Analyzer 1 26.5GHz or 40GHz Agilent 

57 Power meter 

3 Power load, Attenuators, couplers Agilent 功率計(jì) 

58 微波功率放大器 2 18GHz or 26.5GHz 

59 Microwave signal sweeping source （信號(hào)源） 

2 40GHz Agilent 

60 Oscilloscope 2 Agilent 

61 Noise figure analyzer 噪

音分析儀 1 Agilent 

62 Microwave probe system 1 Floating 

63 ADS software 1 

Microwave circuit simulation and 3D 

PCB simulation Agilent 

64 HFSS 1 3D Electrical-magnetic simulation Ansoft 

65 IC-CAP 1 Microwave device modeling 

66 Auto-welding/bonding 3 器件封裝 

67 金硅共融焊接設(shè)備 1 大功率器件封裝 

68 其他輔助生產(chǎn)設(shè)施

建設(shè)單位：云南凝慧電子科技有限公司 

環(huán)評(píng)單位：湖南景璽環(huán)保科技有限公司